热丝化学气相沉积金刚石膜温度场的仿真模拟与应用

摘要：

热丝化学气相沉积( HFCVD)是大面积生长金刚石膜的有效方法，在生长过程中衬底温度的高低和均匀性是影响金刚石膜生长的关键因素。本文综述了国内外学者针对HFCVD法沉积金刚石膜的温度场模拟和优化工艺参数的研究成果，指出了目前存在的问题，提出了下一步的发展方向。

关键词：热丝化学气相沉积、金刚石膜、温度场、模拟、综述

分类号：TQ164

在线出版日期：2015-07-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：64-67,79