热丝化学气相沉积(HFCVD)制备纳米晶态SiC紫外发光特性研究

摘要：

采用热丝化学气相沉积(HFCVD)技术在Si(111)衬底上生长了SiC薄膜.通过电子能谱(EDX)、X射线衍射(XRD)和时间分辨光谱等分析手段对样品结构、组分进行了分析.实验结果表明所制备的样品为纳米晶态SiC,并通过计算得到验证,对所制备样品进行光致发光特性测试,观察到其在室温下有较强的紫外发光.

关键词：碳化硅、纳米晶态、HFCVD、PL、紫外发光

所属期刊栏目：18

分类号：TB34(工程材料学)

资助基金：河南科技大学校科研和教改项目

在线出版日期：2007-10-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：29-31,35