ITO靶材制备的发展及现状

摘要：

ITO靶材通常用于制作透明导电薄膜,是半导体光伏、LCD/OLED显示器等领域不可或缺的原材料.文章综合评述了ITO靶材制备技术现状,介绍了其常规制备方法,如ITO纳米粉体制备、成型技术、烧结技术、靶材绑定焊接技术等ITO靶材制备工艺,并分析了各工艺的优点和缺点,提出了高品质ITO靶材制备技术的研究方向.

关键词：ITO靶材、制备、烧结

分类号：TB383.2(工程材料学)

在线出版日期：2022-06-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：26-28