PECVD在多晶硅上沉积氮化硅膜的研究

摘要：

氮化硅薄膜作为一种新型的太阳电池减反射膜已被工业界认识和应用.应用PECVD(等离子体增强化学气相沉积)系统, 以硅烷、氨气和氮气为气源在多晶硅片上制备了具有减反射作用的氮化硅薄膜.并研究了在沉积过程中, 衬底温度、硅烷与氨气的流比以及射频功率对薄膜质量的影响.

关键词：减反射膜、PECVD、氮化硅

所属期刊栏目：21

分类号：O614.33(无机化学)

在线出版日期：2004-02-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：162-163