磷扩散过程近基区杂质Ga重新分布行为研究
应用扩展电阻(SRP)分析方法,研究了磷再分布过程近基区杂质Ga的重新分布状态,近而明确经二次高温扩散之后,Ga在Si中的最终分布行为.
Ga、重新分布、最终分布
7
TN305.4(半导体技术)
国家自然科学基金;山东省自然科学基金
2007-07-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
1454-1456
Ga、重新分布、最终分布
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TN305.4(半导体技术)
国家自然科学基金;山东省自然科学基金
2007-07-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
1454-1456
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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