光瞳滤波投影光刻实验研究

摘要：

介绍了一套自行研制的用于光瞳滤波实验的投影光刻实验系统,其物镜光瞳处预留出放滤波器的位置,可方便地取放滤波器.在理论分析的基础上开展了光刻对比实验研究,实验研究结果表明,光瞳滤波能大幅度提高投影光刻成像系统分辨力并增大焦深,是一种比较有效的提高光刻成像质量的波前工程技术.

关键词：光瞳相移滤波、光刻系统、分辨力、焦深

所属期刊栏目：7

分类号：TN205(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金69876041

在线出版日期：2007-07-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：1451-1453