用光瞳滤波技术改善投影光刻系统的成像质量

摘要：

针对投影光刻成像系统在数值孔径足够大时所产生的分辨 力和焦 深的矛盾，详细研究了光瞳滤波对光刻成像质量的改善情况，根据不同掩模图形设计对应的 最优滤波器。研究结果表明，光瞳滤波能大幅度提高投影光刻成像分辨力并增大焦深，是一 种比较有效的提高光刻成像质量的技术。

关键词：光刻系统、分辨力、光瞳滤波

所属期刊栏目：7

分类号：TN205(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金69876041

在线出版日期：2007-07-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：237-238