10.3969/j.issn.1671-2064.2019.04.010
纳米气泡促进有机污染物的光降解
以高压剪切法制备纳米气泡,催化Fe(Ⅲ)-EDTA溶液氧化土霉素溶液,考察了Fe(Ⅲ)体系中土霉素的光降解和Fe(Ⅲ)-EDTA溶液、pH和土霉素初始浓度对土霉素降解效果的影响.结果表明,在金属卤化物灯光催化下,Fe(Ⅲ)-EDTA溶液的浓度由30μmol/L提升至60μmol/L,前30min土霉素降解速率提高,但30min后速率降低,且后者最终降解率低于前者;在氙灯光催化下pH由3.00升至7.03土霉素降解速率及最终转化率均降低;土霉素初始浓度增加,降解量增加,在土霉素浓度=6ppm时,土霉素降解量可达1.842ppm,相对土霉素浓度=2ppm时降解量增加了1.10倍.
纳米气泡、有机污染物、光降解
TB383.1(工程材料学)
2019-04-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
24-25,30