化学机械抛光中表面损伤的问题研究

摘要：

在一定的工况参数条件下,机械作用和化学作用匹配时,可以获得高的材料去除率和无表面层及亚表层损伤的高质量的抛光表面.在化学机械抛光过程中,机械作用的加强可以提高材料去除率,但作用力增至一定值之后,抛光后表层和亚表层损伤将逐渐加大;化学作用可以增加机械作用下的材料去除率,但抛光表面在化学反应作用下会产生表面损伤.所以,本文对化学机械抛光中表面损伤的问题进行研究.

关键词：化学机械、抛光、问题研究

分类号：TG662

在线出版日期：2018-02-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：65-66