净水厂中全氟化合物分布特征及UV/SO32-的去除机理

摘要：

通过考察长江原水和南方某净水厂各单元处理工艺中5种全氟化合物(PFCs)的分布特征,分析了各单元对PFCs的去除效果,并探讨了UV/SO2-光还原技术降解饮用水中PFCs的机理.长江原水经过净水厂处理后,总PFCs去除率为35.33％,其中混凝沉淀工艺对PFCs的去除率最高,臭氧和氯消毒工艺会造成PFCs的增加;采用波长为365 nm、功率为500W的紫外灯激发SO32-产生的水合电子能够降解水中的PFCs.当PFCs初始浓度为1 mg/L、SO32-浓度为0.4 g/L、pH值为8.5时,5种PFCs的降解均符合一级反应动力学;PFDA降解的中间产物表明UV/SO32-技术是通过逐步脱去CF2实现降解的.

关键词：净水厂、PFCs、UV、SO32-、水合电子

所属期刊栏目：33

分类号：TU991(地下建筑)

资助基金：国家重点研发计划项目2016YFC0400803;江苏高校优势学科建筑工程资助项目

在线出版日期：2017-12-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：6-10,15