光刻机扫描狭缝刀口半影宽度测量技术

刘志帆1张建华1徐静浩2步扬2王向朝2范李立2陈明2

1.上海大学; 2.中国科学院上海光学精密机械研究所;

摘要：

扫描狭缝是步进扫描光刻机用于控制曝光剂量的重要单元.随着光刻工艺节点减小到90 nm及以下,光刻照明分系统对刀口半影宽度的测量精度和重复性提出了更高要求.基于此,提出一种基于光瞳像的光刻机扫描狭缝刀口半影宽度测量技术.分析了共面扫描狭缝刀片成像光路,推导得到掩模面半影区与光瞳像的对应关系.搭建了扫描狭缝刀口半影检测系统,并对90 nm光刻机照明分系统的扫描狭缝刀口半影宽度进行测量.实验结果表明,所提测量技术可有效改善光强波动对刀口半影宽度测量的影响,扫描狭缝刀口半影宽度的测量重复性达到0.026 mm,提高了3.46倍(与传统扫描法相比).该技术可用于高数值孔径浸没式光刻机照明分系统光学半影参数的测量.

关键词：测量、光刻机、扫描狭缝、半影宽度、成像测量、光瞳

所属期刊栏目：46

分类号：TN305.99;TP23;TP29(半导体技术)

资助基金：国家科技重大专项;国家重点实验室开放基金

在线出版日期：2019-12-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：252-259