基于三维光学模型的彩色边缘场效应优化

摘要：

研究了垂直向列型彩色滤光膜硅覆液晶(VA CF-LCoS)微显示器件,并利用其三维光学模型,改变液晶器件的预倾角、像素尺寸等参数,优化了微小像素中的边缘电场效应.为进一步优化器件的性能,建立了以圆偏振光作为入射光源的微显示器件的三维光学模型.研究结果表明:当以圆偏振光作为照明光源时,VA CF-LCoS微显示器件的光学反射效率可得到大幅提升.由于采用了三维光学模型的分析方法,得到了与利用二维光学模型进行分析时完全不同的结论:优化只能使得边缘场效应导致的亮态子像素内部黑线减小,而不能彻底消除它.

关键词：光学器件、彩色滤光膜、硅覆液晶、垂直向列型、光学建模、圆偏振光

所属期刊栏目：46

分类号：O436(光学)

在线出版日期：2019-08-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：143-150