热蒸发紫外LaF3薄膜光学常数的表征

摘要：

薄膜光学常数的精确测定对于设计和制备多层薄膜具有重要意义.在JGS1型熔融石英基底上,采用热蒸发沉积方法制备了不同厚度的LaF3单层薄膜样品,利用光度法来获取弱吸收薄膜和基底的光学常数,计算得到其在185～450 nm范围内折射率n和消光系数K的色散曲线.实验结果表明,当膜层厚度较薄时,LaF3薄膜折射率表现出不均匀性现象.随着薄膜厚度的增加,薄膜折射率不均匀性减小.在求解过程中选用不均匀模型后,拟合结果与实际测试光谱曲线吻合得很好,提高了薄膜光学常数的计算精度.

关键词：薄膜、光学常数、热蒸发、LaF3、折射率、不均匀性

所属期刊栏目：39

分类号：O484.41(固体物理学)

在线出版日期：2012-10-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：154-157