热处理对电子束蒸发TiO2雕塑薄膜双折射性能的影响

摘要：

使用倾角电子束蒸发技术制备了TiO2雕塑薄膜,通过对雕塑薄膜在不同退火温度和退火时间下进行热处理,发现热处理工艺可以优化薄膜的双折射特性和相位延迟性能.实验结果表明,TiO2雕塑薄膜的最佳退火条件为500℃下处理4 h,其双折射值达0.115左右,远高于未处理时的最大双折射值(0.06).椭偏仪测试结果表明,最优条件下热处理后的薄膜,在550 nm处相位延迟量达90°,可以作为该波长处的λ/4波片使用.因此,热退火是改善雕塑薄膜双折射性能的一种简单实用的方法.

关键词：薄膜、雕塑薄膜、倾斜沉积、双折射、相位延迟

所属期刊栏目：36

分类号：O484.1;O484.4+1(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金60778026;上海市青年科技启明星计划07QB14006资助课题

在线出版日期：2009-10-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：2166-2170