KBA显微成像系统程序设计与模拟

摘要：

近20年来,由于X射线光刻技术、空间技术以及激光引爆的惯性约束聚变(ICF)的过程诊断等的需求,X射线成像技术获得迅速发展.但是,由于常规的成像方法难以适应X射线波段,目前大多采用掠入射反射成像和编码孔径成像方法.KBA显微镜为掠入射非共轴X射线反射成像系统,而且四块反射镜是空间分布的,前两块反射镜和后两块反射镜之间并不是严格互相垂直的,这给像质分析带来相当大的困难.通常的光学CAD软件难于适应这种光学系统.因此设计了掠入射非共轴反射成像的KBA显微镜成像系统程序,并用该程序分析了该系统的综合误差. 物距公差为-0.4～+1 mm,掠入射角公差在-8″～0,双反射镜公差在-20″～0,弥散斑的变化在允许的范围内.

关键词：X射线光学、X射线成像、KBA显微镜、掠入射反射成像、消像散系统

所属期刊栏目：36

分类号：O434.19(光学)

在线出版日期：2009-03-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：110-114