偶氮金属镍薄膜的折射率和吸收特性研究

摘要：

偶氮金属镍(Ni(azo)2)是一类具有很大潜力的可录光盘存储介质.为了准确地获取一种偶氮金属镍薄膜的光学常数,用旋涂法(Spin-coating)在单晶硅片上制备了Ni(azo)2薄膜.在波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪上研究了Ni(azo)2薄膜的椭偏光谱.采用逼近算法获得了Ni(azo)2薄膜在可见光范围内的复折射率、复介电函数、吸收系数和薄膜厚度.分析了Ni(azo)2薄膜可见吸收光谱的形成机理.结果表明在波长650 nm处薄膜的折射率为2.19,吸收常数为0.023,具有良好的吸收和反射特性,显示出作为高密度数字多用光盘(DVD-R)记录介质的良好应用前景.

关键词：薄膜物理学、薄膜光学常数、椭偏光谱、偶氮金属镍鳌合物

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分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2001AA313010;上海市科委资助项目012261068

在线出版日期：2004-10-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1091-1094