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10.3969/j.issn.1681-5289.2022.10.014

集群式PVD设备控制系统 研究与设计

引用
集群式PVD设备具有产能高、污染控制好、工艺配置灵活等特点,广泛应用于集成电路、MEMS、光学薄膜等半导体晶圆制造薄膜沉积工序.本文针对集群式PVD设备结构和工艺特征进行研究,设计一套满足晶圆传输、定向、烘烤、沉膜等功能控制系统,详细阐述设备各模块功能,控制系统软硬件设计及实现.

群集式PVD设备、控制系统、PLC、监控软件

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TP311.52;TP273;F425.4

2022-11-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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中国集成电路

1681-5289

11-5209/TN

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2022,31(10)

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