一种高效监测工艺制程的电路设计

摘要：

随着摩尔定律的发展,集成电路中的晶体管及其互联金属尺寸逐渐减小.为实现这些纳米级尺寸结构,就需要更复杂的工艺制程,但随之而来的是芯片中缺陷的增加和良率的下降.为解决这一问题,作者设计一种高效的用于监测后道工艺制程的电路,可以同时监测大量样品,并准确发现有缺陷的结构.相较于传统的两端法测试方法,作者提出的电路和相应测试方法在相同面积情况下可以多放36％的测试样品,测试同等数量样品可以节省近70％的总测试时间,并通过投片验证.本文的设计有助于快速发现工艺中的缺陷并进行优化迭代,最终提升晶圆厂良率,提高产品竞争力.

关键词：测试电路、后道工艺、工艺监控、良率

所属期刊栏目：31

分类号：TN702;TE357.8;TN402

在线出版日期：2022-08-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：60-64