群集式磁控溅射设备及工艺研究

摘要：

本文介绍了一种专用于红外器件ZnS/CdTe双层钝化膜工艺的群集式磁控溅射设备.通过正交实验探索不同靶基距、靶偏心距对薄膜均匀性的影响,结果表明在靶基距为100 mm～160 mm、偏心距为160 mm～190 mm时,所沉积的ZnS薄膜均匀性优于5％,满足红外器件钝化膜层制备工艺需求.

关键词：磁控溅射;红外器件;碲镉汞;硫化锌;碲化镉

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在线出版日期：2021-10-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：67-70,91