亚分辨率辅助图形对28纳米密集线条光刻成像的影响

摘要：

亚分辨率辅助图形(Sub-Resolution-Assist-Feature,SRAF)是光刻工艺图形增强技术(Resolution Enhancement Technology,RET)中广泛应用的一种方法.本文设计实验在密集图形(线宽/距离比约1∶1)外侧放置不同的SRAF,研究了SRAF对于密集图形内部线条成像的影响,通过实验数据总结和理论分析,提出了最佳的SRAF放置位置.此外,本文还设计了一种与设计图形线宽一样大小的SRAF,并比较了其与传统尺寸SRAF对密集图形内侧线条成像的影响.

关键词：亚分辨率辅助图形、SRAF、光学邻近效应修正、OPC、分辨率

所属期刊栏目：25

分类号：TN3;TP3

在线出版日期：2016-07-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：53-58