HF气相刻蚀技术及其在MEMS加速度计中的应用

摘要：

本文介绍了一种用于微结构干法释放的HF气相刻蚀技术.通过调节工艺参数(包括腔体压力,HF流量,乙醇流量,氮气流量)研究其对二氧化硅刻蚀速率和均匀性的影响,得到刻蚀速率在500(A)/min左右,均匀性5％左右的工艺菜单.该技术运用于MEMS加速度计中,成功实现了梳齿结构和质量块的无粘连释放.

关键词：气相氟化氢、牺牲层腐蚀、无粘连释放、刻蚀速率和均匀性、微加速度计

所属期刊栏目：25

分类号：TN4;TN3

在线出版日期：2016-05-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：73-77