运用互补性显微术在终极尺度上三维重构并分析同一个纳米级样品

摘要：

运用两种不同的纳米尺度或原子尺度测量分析方法分析同一个样品,对完全掌握一种材料或产品的属性至关重要,这种优势互补的分析方法特别适用于测定MOSFET、FINFET等新一代纳米级晶体管的掺杂分布情况.本文综合电子断层扫描技术(ET)与原子探针层析技术(APT)两种表征方法,研究纳米级晶体管中硼原子空间分布特征.本文采用电子断层扫描技术,结合原子级分辨率离子弹道仿真实验,以修正原子探针层析技术的三维重构图像失真.APT三维重构技术能够对样品器件进行详细的化学分析.

关键词：电子断层扫描(ET)、原子探针层析(APT)、CMOS器件

所属期刊栏目：24

分类号：TG1;TB3

资助基金：本作品投资方为RechercheTechnologique de Base;法国国家研究局APTITUDE项目ANR-12-NA0001;实验是在MINATEC的Nanocharacterisation平台PFNC上完成的

在线出版日期：2015-09-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：54-58,79