三星成功流片全球第一颗20nm工艺试验芯片

摘要：

三星电子日前宣布，已经成功实现了20nm工艺试验芯片的流片，这也是迄今为止业内最先进的半导体制造工艺。三星电子此番利用了美国加州电子设计自动化企业Cadence Design Systems提供的一体化数字流程RTL—to—GDSII。

关键词：三星电子、工艺试验、芯片、半导体制造工艺、Cadence、电子设计自动化、Systems、美国加州

所属期刊栏目：20

分类号：TN43(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2012-08-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：5-5