国际半导体技术发展路线图2008年更新版综述(六)

摘要：

@@ 3.14计量在2008年,计量技术工作组专注于对光刻计量和前端工艺计量技术需求的更新.新的光刻工艺,例如二次图形生成、隔离层二次图形生成(spacer double patteming),以及二次曝光,都给计量带来了相当困难的挑战.

机标关键词：半导体、技术发展、路线图、计量、图形生成、技术工作组、技术需求、光刻工艺、二次曝光、隔离层、前端、困难、更新

所属期刊栏目：18

分类号：TG1;G32

在线出版日期：2010-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：28-32,38