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10.3969/j.issn.1681-5289.2009.05.015

GJL-225真空/可控气氛共晶炉

引用
@@ 中国电子科技集团公司第二研究所的GJL-225真空/可控气氛共晶炉荣获2008年度中国半导体创新产品和技术奖.

真空、可控气氛、共晶、中国、集团公司、电子科技、创新产品、研究所、半导体、技术

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U48;TP2

2009-06-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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中国集成电路

1681-5289

11-5209/TN

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2009,18(5)

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