期刊专题

10.3969/j.issn.1681-5289.2009.01.012

NBTI的研究进展和改善途径

引用
本文首先介绍了发生于PMOSFET器件上的NBTI(负偏压温度不稳定性)的基本理论,介绍了NBTI的两种衰退机理(反应-扩散模型和电荷俘获-脱离模型),指出它们各自的适用范围,并针对新的NBTI测试方法的采用,探讨了对可靠性性能估计的影响.最后总结了遏制NBTI效应的研究成果.

负偏压温度不稳定性、反应-扩散模型、电荷俘获-脱离模型、界面陷阱电荷

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R57;TB3

2009-03-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

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中国集成电路

1681-5289

11-5209/TN

18

2009,18(1)

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