脉冲时间参数对电沉积铜薄膜性能的影响

摘要：

针对先进纳米铜互连技术的要求,研究了脉冲时间和关断时间对铜互连薄膜电阻率、晶粒尺寸和表面粗糙度等性能的影响.实验结果表明,占空比较小时,镀层电阻率较大,晶粒直径较小.脉冲时间选择在毫秒数量级,占空比选择在40%～60%之间容易获得较小电阻率和较大晶粒尺寸的铜薄膜.

关键词：铜互连、脉冲电镀、电阻率、晶粒尺寸、表面粗糙度

所属期刊栏目：16

分类号：TN4(微电子学、集成电路（IC）)

资助基金：国家自然科学基金60176013;上海市科委资助项目0304

在线出版日期：2008-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：52-56