超深亚微米工艺时代集成电路设计领域所面临的技术挑战

摘要：

集成电路工艺加工能力的不断提高给设计工作带来了多方面需要解决的问题.本文主要探讨目前在集成电路设计领域各个方面的设计技术挑战和研究热点问题.

机标关键词：深亚微米工艺、时代、集成电路工艺、设计领域、设计工作、热点问题、加工能力、技术挑战

所属期刊栏目：15

分类号：TN4(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2008-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：29-33,64