ASML的创新之路

摘要：

@@ ASML公司是一家重点制造集成电路关键专用制造设备--光刻设备(或称图形曝光设备)的公司.总部位于欧洲荷兰的Veldhoven,成立于1984年,进入新世纪以后,逐步走向世界的前沿.尤其是当它坚持自主创新,推出浸没式光刻系统后,率先将传统的光学光刻系统推进到45纳米节点,在近期内改写了集成电路的规划发展路线,受到产业界广泛的欢迎.公司的经济效益也十分明显.

机标关键词：集成电路、光刻系统、走向世界、自主创新、制造设备、系统推进、曝光设备、经济效益、光学光刻、光刻设备、发展路线、浸没式、产业界、图形、前沿、欧洲、纳米、节点、荷兰、规划

所属期刊栏目：15

分类号：TN4(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2008-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：58-62