中国半导体设备业发展的契机

摘要：

@@ 回顾中国半导体设备的发展历史,可以说是"起步早、门类全、发展曲折".所谓起步早,指的是从上世纪50年代中后期开始研制锗工艺半导体设备,60年代初中期自行制造我国第一条1Gz锗半导体三极管单机自动化生产线,60年代中期即研制了Ф35mm圆片、10μm线宽水平的硅平面工艺半导体设备;70年代末至80年代,我国就已研制了电子束曝光机、激光冗余修正仪、高能离子注入机、离子束外延设备、分子束外延设备、分步重复光刻机、超纯水处理系统等一批高水平的半导体设备.

机标关键词：中国、半导体设备、分子束外延设备、高能离子注入机、自动化生产线、电子束曝光机、纯水处理系统、半导体三极管、硅平面工艺、中后期、修正仪、离子束、光刻机、初中期、制造、圆片、线宽、曲折、门类、历史

所属期刊栏目：15

分类号：F49(信息产业经济(总论))

在线出版日期：2008-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：23-26