SiO2-K2SiO3涂层对空间材料Kapton的防护行为研究

摘要：

在微波电离型原子氧(AO)源地面模拟设备中对空间材料Kapton及SiO2-K2SiO3无机-有机复合涂层进行原子氧剥蚀效应试验.用扫描电镜(SEM)、光电子能谱(XPS)、红外光谱(FT-IR)、X射线衍射光谱(XRD)和LAMBDA-9分光光度计,对在模拟原子氧(AO)环境中Kapton及在其表面涂覆的涂层所发生的侵蚀与防护作用进行了表征研究.AO对Kapton表现了较严重的侵蚀作用,表面呈现粗糙,失去原有光滑和透明.而施加的SiO2-K2SiO3涂层,经AO辐照后,表面却变化甚少.实验表明,该涂层对AO辐照有较强的防护效果,有较好的空间稳定性,能阻止AO对基材的侵蚀.

关键词：原子氧、侵蚀、SiO2-K2SiO3、防护涂层

所属期刊栏目：24

分类号：TG174.46(金属学与热处理)

资助基金：总装备部科研项目

在线出版日期：2004-06-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：91-94