用极差法与回归法探讨蒙脱石有机化层间距的影响因素

摘要：

本文选择了四个主要影响蒙脱石有机化层间距的因素(插层剂含量、温度、搅拌时间、pH值)设计了18个试验,用极差法和回归法分析了实验结果,结果表明制备最大层间距的最佳工艺条件为:插层剂含量70%;温度为95℃;搅拌时间为2h;pH值为5,而且在插层剂含量＜70%时,制备的蒙脱石层间距与插层剂含量存在线性关系.即:蒙脱石层间距=1.771+2.828×插层剂含量,其他因素影响程度很小.这一结论对不经过X-ray测试而直接估算制备的蒙脱石层间距起到了指导性的作用.

关键词：有机蒙脱石、层间距、正交法、回归法

分类号：O212.1;P619.255(概率论与数理统计)

资助基金：国土资源部科研项目121280201102

在线出版日期：2004-09-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：100-102