SiC颗粒化学镀铜工艺研究

摘要：

化学镀铜在生产中应用比较广泛,但是在化学镀铜过程中的活化工艺所需试剂有毒,并且价格较为昂贵。探讨了取消化学镀铜过程中的活化工艺后,其他工艺条件对SiC镀铜效果的影响规律。经实验分析,获得了化学镀铜实验优化工艺参数为：化学镀铜溶液温度为35℃,溶液pH值用氢氧化钠调节至12~13,硫酸铜加入量为12 g/L,甲醛加入量为28 ml/L,酒石酸钾钠加入量为40 g/L,经过一定时间在碳化硅表面得到了良好的铜镀层。通过X射线衍射仪及扫描电镜检测,结果表明：取消了活化工艺后,在碳化硅表面仍然得到了较好的铜包覆层。

关键词：碳化硅、化学镀铜、活化工艺

所属期刊栏目：35

分类号：TB333(工程材料学)

在线出版日期：2016-10-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：636-639