超高圆二色性近红外全介质二维手性超表面

摘要：

随着微纳加工技术的发展,手性超表面被证明在光学中有着巨大的应用潜力.传统的金属手性结构,由于其自身存在的欧姆损耗,难以取得理想的圆二色性,而具有良好圆二色性但结构复杂的三维手性结构加工制备困难.采用周期性双Si砖错位拼接的二维全介质手性结构,通过激发介质内部中非正交的面内磁偶极矩和电偶极矩,可以产生明显的光学手性响应,从而得到理想的圆二色性.通过仿真优化,该结构在 1 550 nm波长附近可以实现超过 0.94的超高圆二色性,并且可以实现对入射的左旋圆偏振光到右旋圆偏振光的转化.该全介质二维手性超表面的圆二色性高、结构简单、制备难度低,在近红外偏振成像等领域有着广泛的应用前景.

关键词：全介质、超表面、手性、二维、圆二色性

所属期刊栏目：45

分类号：TN29;O436(光电子技术、激光技术)

资助基金：陕西省教育厅专项计划项目;陕西省自然科学基础研究计划项目;国家外国专家项目

在线出版日期：2024-08-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：716-722