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10.5768/JAO201839.0607003

532nm激光辐照下ZnSe薄膜光学特性研究

引用
采用电子束热蒸发技术制备了ZnSe薄膜,研究了532 nm波长的不同能量(2.0 mJ、2.5mJ、3.0 mJ)、不同脉冲数(3、10、15)激光诱导前后,ZnSe薄膜的透射率、折射率、消光系数、损伤阈值(LIDT)的变迁.研究结果显示,在能量为2.0 mJ激光辐照后,ZnSe薄膜折射率提高,透射率下降.相比较能量为2.5mJ、3.0mJ激光辐照,在能量为2.0mJ激光辐照后折射率提高最明显,由2.489 4提高到2.501 6.薄膜损伤阈值从0.99 J/cm2提高到1.39 J/cm2(10脉冲辐照);薄膜的损伤经过了无损伤到严重损伤突变的损伤演变过程.采用原子力显微镜对预处理后薄膜表面粗糙度进行检测,发现激光预处理后的薄膜表面粗糙度Ra有所下降,从0.563 nm降低到0.490 nm(15脉冲激光辐照).

硒化锌、预处理、透射率、折射率、消光系数、损伤阈值

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TN249;O484(光电子技术、激光技术)

陕西省国家科技合作与交流计划资助项目2016KW-036;科技部国际合作资助项目2013DFR70620

2019-01-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共7页

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应用光学

1002-2082

61-1171/O4

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2018,39(6)

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