一种用于MOCVD石墨盘的红外测温装置
根据MOCVD (metal organic chemical vapor deposition)在线红外测温的发展需要,结合Thomas Swan CCS MOCVD反应室的结构特征,考虑加热比调节空烧过程的特定条件,设计了一种能够在线监测MOCVD石墨盘上表面温度及径向19个点温度分布的简易940 nm红外测温装置.通过安装于光学视窗上方的红外探头,探测高温石墨盘及外延片的红外辐射强度,根据Planck黑体辐射公式及光谱发射率修正进行测温.红外测温装置主要由可读数轨道、红外探头、连接板以及精密平移台4部分组成.将该装置应用于MOCVD Si(111)衬底上制备InGaN/GaN多量子阱(MQW)结构外延片加热程序的空烧过程,结果表明:最低能够测量的温度为430℃,700℃~850℃测量误差在2.3℃内,900℃~1 100℃测量误差在1℃内,700℃~1 100℃范围内,重复性均在0.6℃内,无需反射率修正、探孔有效面积校准;能稳定工作.
红外测温、金属有机物化学气相沉积、在线监测、光学设计
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TN219;TN305(光电子技术、激光技术)
国家重点研发计划“战略性先进电子材料”重点专项2017YFB0403700;陕西省自然科学基础研究计划资助项目2017JQ6011;陕西省教育厅专项科研计划项目16JK1241;商洛市科技计划项目SK2015-29
2018-08-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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