大口径碳化硅反射镜面PVD改性工艺的研究

摘要：

通过将多块不同尺寸的碳化硅平面试片以及一块口径为520 mm碳化硅凹非球面反射镜作为镜面改性工艺技术的实验平台,对大口径碳化硅反射镜面PVD改性工艺技术进行探索、分析和研究.重点研究了前期PVD改性前镜面特性与PVD改性层的最佳匹配关系,主要是PVD改性层与镜面粗糙度和残留面形误差的要求和最佳结合点.采用的抛光方式为磨盘相对镜体做行星运动,采用相同的离子束辅助沉积法进行凹椭球面碳化硅反射镜的镜面改性.实验结果表明:通过选用合适的方案对改性后的PVD改性层镜面的面形误差进行修抛,可同时提高其镜面光洁度和粗糙度,最终测试结果为0.756 nm(Sq),与改性前比较,粗糙度得到一定程度的提高.

关键词：光学工艺、大口径碳化硅反射镜、PVD改性、抛光

所属期刊栏目：34

分类号：TN205;TB332(光电子技术、激光技术)

资助基金：天文台站设备更新及重大仪器设备运行专项C-98

在线出版日期：2013-10-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：854-859