干涉条纹密度的计算及其应用研究

摘要：

采用光的干涉方法检测曲面光学表面的加工质量时,都需要事先设计好系统光路的最佳检测技术参数,并能对检测的难度进行有效的评估,从而确保检测的精度.该研究采用了一种计算干涉条纹密度的新方法,对任意光学曲面检测的难度进行评估,并用于确定球面参考光点光源的最佳位置.以非球面为例,计算了非球面的最接近球面的半径和最大非球面度以及非球面检测时球面参考光点光源的最佳位置,说明了计算干涉条纹密度方法在确定干涉检测系统光路调试最佳条件的优越性,可为各种干涉检测系统的设计以及优化调试过程提供理论依据和分析指导.

关键词：应用光学、干涉条纹密度、非球面、最接近球面、非球面度

所属期刊栏目：34

分类号：TN206;O436(光电子技术、激光技术)

资助基金：陕西省自然科学基金2010JM8012资助课题

在线出版日期：2013-07-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：273-278