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10.3969/j.issn.1008-8008.2015.03.008

黑硅的光吸收特性

引用
黑硅(飞秒激光微构造硅)具有很强的光吸收性质。用飞秒激光在不同背景气体( SF6和N2)氛围下刻蚀硅表面得到黑硅。实验发现,黑硅光吸收性质及表面形貌与刻蚀时所处不同背景气体环境( SF6和N2)密切相关。在SF6气体环境下刻蚀得到的样品,表面尖峰比较尖锐,在测量波段(0.3-2.5)的光吸收90%以上;在N2环境下刻蚀的尖峰比较钝,在近红外波段(1.1-2.5)随着波长增加,吸收比减小。不同尖峰高度的黑硅样品在红外波段的光吸收随着尖峰高度的增加呈现增强态势。黑硅镀银后波长在1.5-10微米范围内吸收比达90%,远高于镀银前的70%。从表面尖峰结构,杂质能级,结构缺陷,表面等离子体四个角度尝试性探讨了高吸收的物理机理。黑硅的高吸收光学特性,将在红外探测器,隐身技术,高效太阳能电池等方面具有很大的潜在应用前景。

飞秒激光、微构造、光吸收

O436.2(光学)

2015-08-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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运城学院学报

1008-8008

14-1316/G4

2015,(3)

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