残影不良分析及改善对策研究

摘要：

通过对大量残影不良样品进行分析,找到了残影不良产生的原因,并基于分析结果设计了改善残影的实验.通过分析发现:残影不良产生的原因是彩膜侧像素与黑矩阵之间的段差过大,在摩擦工程时段差过大区域形成了摩擦弱区,摩擦弱区内的液晶分子配向较弱,导致不良产生.为降低残影不良进行实验,结果显示:在彩膜侧加覆盖层可以有效降低残影不良的发生率,但不适用于量产;通过采用高预倾角的配向膜材料,同时控制配向膜工程到摩擦工程的时间,可使残影不良发生率由28.2％降低至0.2％,为企业的稳定高效生产奠定了基础.

关键词：残影、扭曲向列型、预倾角、面板

所属期刊栏目：30

分类号：TN141(真空电子技术)

在线出版日期：2015-09-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：566-570