磁控溅射工艺参数对TiAlN薄膜结构和性能影响规律研究

摘要：

采用XRD、SEM、纳米压痕仪、纳米划痕仪等分析了磁控溅射工艺参数对TiAlN薄膜物相、微观组织、力学性能及结合力的影响规律.结果表明,所有样品生成相均为面心立方的TiAlN,且在(111)晶面择优生长,薄膜表面形成三棱锥状密排晶粒.选定硬度与结合力两个指标对TiAlN薄膜进行评价,通过正交实验发现,硬度与结合力的最优工艺参数均为基底偏压—100 V,工作气压0.3 Pa,溅射电流8 A,氮流量40 sccm.

关键词：TiAlN薄膜、磁控溅射、工艺参数、正交实验、硬度、结合力

所属期刊栏目：51

分类号：TG174.4(金属学与热处理)

资助基金：国家科技重大专项2017-Ⅶ-0012-0109

在线出版日期：2023-03-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：70-76,85