弧电流对多弧离子镀纯Cr涂层组织性能的影响

摘要：

采用多弧离子镀技术在锆合金表面制备了纯Cr涂层.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和划痕仪分析了弧电流对纯Cr涂层表面形貌、物相结构以及膜基结合力的影响,并采用Image J图像处理软件对纯Cr涂层表面大颗粒分布进行统计和分析.结果表明,随着弧电流的增大,纯Cr涂层表面大颗粒尺寸先增大后减小,单位面积内大颗粒数目则先减少后增多,同时纯Cr涂层的择优生长趋势由(110)晶面变为(200)晶面,且纯Cr涂层与锆合金基材的膜基结合力先减小后增大.

关键词：纯Cr涂层、多弧离子镀、弧电流、SEM形貌、物相结构、膜基结合力

所属期刊栏目：45

分类号：TG144(金属学与热处理)

资助基金：国家科技重大专项;湖南省重点学科建设项目;湖南省高校重点实验室基金

在线出版日期：2017-11-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：53-56,62