化学气相沉积法制备钨系列产品特点及工艺分析

摘要：

介绍了利用化学气相沉积(CVD)法制备钨系列产品(包括钨管、钨坩埚、钨异型件等纯钨产品和铜基/钨基/钼基/石墨基等涂层产品)的工艺流程及设备体系.CVD法制得的钨系列产品特点有:密度高,其密度值达到理论密度的98.5％以上;纯度高,钨含量达到99.999 9％;微观组织为柱状晶或多层柱状晶结构;涂层类产品钨与基体结合强度高.

关键词：钨系列产品、化学气相沉积法、工艺流程、设备体系、材料特性

所属期刊栏目：41

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

在线出版日期：2014-02-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：17-21