光学玻璃抛光材料用超细CeO2前驱体的制备

摘要：

以低铈混合氯化稀土为原料,NH3*H2O为沉淀剂,空气和H2O2为氧化剂,经选择性氧化沉淀、洗涤、烘干、煅烧制备用于光学玻璃抛光材料的超细CeO2前驱体.研究了氧化沉淀条件与加料方式对前驱体中氧化铈含量的影响,以及煅烧温度与前驱体粉末粒度、比表面和物相组成的相关关系.结果表明:采取正序滴加进料方式,控制沉淀过程pH值在4.5～5.5范围,可以使Ce3+氧化成Ce4+并形成氢氧化物沉淀而与其他稀土离子分离,沉淀物在600～700 ℃煅烧,得到CeO2含量大于80%,中位粒径D50小于1.5 μm的超细CeO2抛光粉前驱体.

关键词：超细CeO2、抛光粉前驱体、抛光材料

所属期刊栏目：31

分类号：TF123.25(冶金技术)

资助基金：国家自然科学基金20163002;国家"211"工程建设项目

在线出版日期：2003-10-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1-4