微纳钨粉制备方法研究评述

摘要：

难熔金属钨由于电子迁移抗力强、高温稳定性好以及电子发射系数高等优点,在半导体制造中被用于制备溅射薄膜材料的钨和钨合金靶材.微纳钨粉作为制造半导体用钨和钨合金靶材的重要原料,其性能影响半导体用钨和钨合金靶材的稳定性、薄膜沉积速率等性能,研究其合成方法具有重要的意义.综述了国内外微纳钨粉的合成方法,重点对氢还原法、碳氢还原法、高能球磨法、等离子体技术等在微纳钨粉合成领域的研究进行了综述,同时对酸沉淀法、循环氧化还原法、喷雾干燥法进行了简单的介绍,并对这些合成方法的优缺点进行了简单评述.在氢还原法中,突出介绍了不同种类钨原料在微纳钨粉合成中的应用;碳氢还原法中,重点介绍了添碳氢还原法和碳还原-氢还原两步还原法两种工艺路线,探究了C/WO3比对两种工艺路线结果的影响;高能球磨法中,总结了球磨介质、球料比、过程抑制剂等球磨参数对球磨效果的影响;等离子体技术介绍中,总结了现有的钨原料在微纳钨粉中的应用情况.

关键词：微纳钨粉、氢还原法、高能球磨法、等离子体技术

所属期刊栏目：47

分类号：TF123(冶金技术)

资助基金：国家重点研发计划2017YFB0305603

在线出版日期：2023-11-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共10页

页码：1427-1436