氦离子辐照对纯钨表层纳米压痕硬度的影响

摘要：

钨作为散裂中子源固体靶的首选材料,钨的辐照损伤及氦行为研究被广泛关注.本文对高纯钨片进行常温氦离子注入,氦离子能量350 keV,注入剂量分别为1×1016,5×1016和1×1017ions·cm-2.利用纳米压痕测量技术表征He注入前后钨的硬度变化,测试结果表明,氦离子注入后,钨出现辐照硬化现象,且随着注入剂量的增大,钨表面纳米压痕硬度增大;3个不同注入剂量样品的纳米压痕硬度值都随着测量深度先增大后降低.透射电镜(TEM)结果显示,氦离子注入后,钨内产生了氦离子聚集,形成氦泡,且随着注入剂量的增大,氦泡尺寸逐渐增大,氦泡密度提高.

关键词：钨、氦离子、纳米压痕、氦泡、微观结构

所属期刊栏目：46

分类号：TK91

资助基金：国家重点研发计划;中科院高能所科技创新项目;国家自然科学基金

在线出版日期：2023-01-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1520-1525