不锈钢基体表面CVD-Ta涂层组织和性能的研究

摘要：

介绍了化学气相沉积(CVD)制备难熔金属Ta涂层的一般原理及方法.利用TaCl5-H2-Ar反应体系,采用化学气相沉积法在不锈钢基体表面沉积了Ta涂层.通过X射线衍射仪(XRD)和扫描电镜(SEM)手段,研究了CVD温度对Ta涂层的结构、沉积速率、显微组织的影响,分析了Ta涂层的显微组织结构和成分组成,对Ta涂层试样在强酸冲刷条件下进行了耐腐蚀试验,最后对Ta涂层试样的失效机理进行了分析.结果 表明:在1000～1200℃范围内,随着沉积温度的升高,Ta涂层晶粒结晶性能逐渐变好,沉积速率逐渐增大,当沉积温度大于1100℃,Ta涂层和基体之间会出现较明显的扩散层;Ta涂层主要由分布均匀的钽元素和少量不连续的氧元素组成;涂层的失效的主要原因是由于Ta涂层纵向生长的柱状晶不致密,使得晶界处的氧化物率先腐蚀,使得钽涂层逐渐失去对基体的保护作用.

关键词：化学气相沉积(CVD)、不锈钢基体、Ta涂层

所属期刊栏目：44

分类号：TB332(工程材料学)

资助基金：国家科技支撑计划项目715-005-0140

在线出版日期：2020-10-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：668-672