10.13373/j.cnki.cjrm.XY15103002
L10-Fe51Pd49颗粒膜的结构和磁性能
采用直流磁控溅射法在石英玻璃基片上制备了Fe51 Pd49纳米颗粒膜,将其在500 ~700℃下进行不同时间的热处理,利用场发射高倍扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、振动样品磁强计(VSM)研究了热处理时间、温度对薄膜结构、形貌和磁性能的影响.结果表明,在600℃热处理温度下,随着热处理时间的增加,薄膜由面心立方(fcc)相向面心四方(fct)相转变,fct相的衍射峰逐渐增强,薄膜产生的孔洞随之扩大,膜面由制备态的连续分布转变为不连续的类岛状,并产生了分层,其矫顽力、剩磁比表现出先增大后减小的趋势,最大值分别为0.29 T,0.94.降低热处理温度至550℃,进行3h的热处理后发现样品也能进行充分的fcc-fct相转变,矫顽力也能达到0.29 T,剩磁比为0.90.本研究有效降低了FePd合金的相转变温度.
FePd薄膜、磁记录、磁控溅射、磁性能
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TM27(电工材料)
广西自然科学基金项目2013GXNSFBA019242,2012GXNSFGA060002;广西高校科研项目YB2014118;广西研究生教育创新计划项目YCSZ2014140;国家自然科学基金项目51461012,51261004
2017-06-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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