射频磁控溅射WO3薄膜电致变色性能研究

摘要：

采用射频磁控溅射技术在透明导电氧化铟锡(ITO)玻璃上沉积了不同工作压强和不同氧分压(氧氩比)条件下的WO3薄膜并研究了其电致变色特性.采用X射线衍射分析(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析了所制备薄膜的成分结构和表面形貌,采用电化学测试工作站和紫外可见双束分光光度计对薄膜的电致变色循环伏安特性和光调制性能进行了研究.结果表明,射频磁控溅射制备的WO3薄膜的成分结构和电致变色循环伏安特性之间存在着一定的影响关系;相对于氧分压,薄膜沉积过程中的工作压强对WO3薄膜的成分结构和电致变色性能的影响更加明显,随着工作压强的增大,薄膜由晶态逐渐转变为非晶态,薄膜表面微观结构更加粗糙,进而具有更优的循环伏安特性和更宽的光调整范围.

关键词：WO3薄膜、射频磁控溅射、电致变色、循环伏安、工作压强

所属期刊栏目：40

分类号：TN304(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金项目51202013,51477012资助

在线出版日期：2016-10-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：902-907