AlON/TiAlOND/TiAlONM/Cu光谱选择性吸收涂层高温真空稳定性研究

摘要：

利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电镜(TEM)和俄歇电子能谱仪(AES)研究了AlON/TiAlON o/TiAlONM/Cu选择性吸收涂层高温真空条件下显微形貌、结构与化学成分的变化.结果表明,退火前后选择性吸收涂层的多层膜结构和微观形貌保持稳定.制备态涂层的AlON层和TiAlOND层为非晶结构,TiAlONM层由非晶基体和分散的晶粒组成.550℃高温真空退火24h后,TiAlONM层发生晶化,晶粒长大.退火过程中,O元素从Al0N层扩散至TiAlON双吸收层,而N元素从TiAlON双吸收层扩散至Al0N层,同时膜层界面区域变宽.高温真空处理后涂层的吸收率略有降低,而发射率保持不变.晶化导致TiAlONM层吸光性能下降,以及N和0元素扩散导致最优化结构被破坏是涂层吸收率衰减的主要原因.涂层在真空下热稳定激活能为189.5 kJ·mol-1,表明涂层具有较好的热稳定性.

关键词：选择性吸收涂层、热稳定性、晶化、元素扩散、激活能

所属期刊栏目：40

分类号：TK519;O484(特殊热能及其机械)

资助基金：国家科技部高技术研究发展863计划项目2012AA050601资助

在线出版日期：2016-10-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：896-901